Das Messsystem zur infrarotspektroskopischen Untersuchung von Oberflächen- und Schichtsystemen ist besonders für die Analytik auch von sehr großen Proben wie Wafern und Bauteilen geeignet. Unter Nutzung der bei verschiedenen Einfallswinkeln und Polarisationen aufgenommenen Reflexionsspektren können mit diesem berührungslosen und zerstörungsfreien Messverfahren gleichzeitig Aussagen z. B. zur chemischen Bindung, zur Phasenzusammensetzung, zu Ladungsträgerkonzentrationen, zu den optischen Eigenschaften und zur Schichtmorphologie gewonnen werden.