Labore zur Oberflächenfunktionalisierung
Laserquellen
- Unterschiedlich ns- und ps-gepulste Festkörperlasersysteme (verfügbare Wellenlängen: 266, 355, 532 und 1064 nm), 0,5 bis 300 W
Anlagentechnik
- Laserinterferenzstrukturierungsanlagen (Eigenentwicklung), Auflösung bis 150 nm, 0,9 m²/min
- CNC-Vier-Achsen-Positioniersysteme (x, y, z, Rotation), Auflösung: 0,5 µm, x/y/z-Scanlänge bis 500 mm, Rotationswinkel: 360°
- Auflichtmikroskope, max. Vergrößerung: 150-fach
- Tribometer, Kraftauflösung: 0,1 µN
- Weißlichtinterferometer und Konfokalmikroskope, Vertikale Auflösung: bis 0,1 nm, Laterale Auflösung: bis 140 nm
- Rolle zu Rolle UV/Hot Embossing System, Folienbreite bis 300 mm, bis 50 m/min (TU Dresden)
- KI-Testbench – Vorhersagemodellierung für die Laserpräzisionsfertigung: Kombination von Mikromaterialbearbeitung mit künstlicher Intelligenz und maschinellem Lernen.