Röntgen- und EUV-Optik

Zur Abscheidung von Nanometerdicken Einzel- und Multischichten für EUV- und Röntgenoptiken setzen wir die Verfahren des Magnetron- und Ionenstrahl-Sputterns ein. Die Schichtsysteme genügen höchsten Ansprüchen hinsichtlich Schichtdickengenauigkeit, Rauheit, chemischer Reinheit, lateraler Homogenität und Reproduzierbarkeit. Neben der Entwicklung und Herstellung von Präzisionsschichten haben wir langjährige Erfahrungen zur Modellierung und Charakterisierung von optischen Schichten an.

Unser Leistungsangebot umfasst:

• Schichtabscheidung 
  • Ionenstrahl-Sputter-Deposition (IBSD)
  • Magnetron-Sputter-Deposition (MSD)
  • Puls-Laser-Deposition (PLD)
• Schichtcharakterisierung
• Feinmechanik und Konstruktion 
• Modellierung und Simulationstechnik