Fraunhofer-Institut für Werkstoff- und Strahltechnik IWSAnlage zur Puls-Laser-Deposition (PLD) von Nanometer-Multischichten auf Großflächen
Anlage zur Puls-Laser-Deposition (PLD) von Nanometer-Multischichten auf Großflächen
Schematische Darstellung der Target-Substrat-Anordnung zur großflächig homogenen Beschichtung
Aufbau
- patentiertes Target-Substrat-Bewegungsregime zur Abscheidung homogener Schichten auf großen Flächen
- UHV-Bauweise zur Herstellung hochreiner Schichten
- Integration einer Vakuumschleuse für schnellen Probenwechsel
Einsatzgebiete
- Abscheidung von atomar glatten und präzisen Nanometer-Einzel und Multischichten (homogen oder mit gezielten Schichtdickengradienten)
- Abscheidung von Substratglättungsschichten
Technische Daten
- Vakuum: p < 2·10-8 mbar
- Substrate: Ø = 100 mm
- Targets: 4 Stück, zylindrisch
- Run-to-run-Reproduzierbarkeit der Schichtdicke: 99,8 %
- Ablationslaser: gütegeschalteter Nd:YAG mit den Wellenlängen λ = 1064 nm, 532 nm, 355 nm und Pulslängen τ = 4 ... 10 ns