Puls-Laser-Deposition (PLD) Anlage

Anlage zur Puls-Laser-Deposition (PLD) von Nanometer-Multischichten auf Großflächen

Anlage zur Puls-Laser-Deposition (PLD) von Nanometer-Multischichten auf Großflächen
© Fraunhofer IWS Dresden
Anlage zur Puls-Laser-Deposition (PLD) von Nanometer-Multischichten auf Großflächen
Schematische Darstellung der Target-Substrat-Anordnung zur großflächig homogenen Beschichtung
© Fraunhofer IWS Dresden
Schematische Darstellung der Target-Substrat-Anordnung zur großflächig homogenen Beschichtung

Aufbau

  • patentiertes Target-Substrat-Bewegungsregime zur Abscheidung homogener Schichten auf großen Flächen
  • UHV-Bauweise zur Herstellung hochreiner Schichten
  • Integration einer Vakuumschleuse für schnellen Probenwechsel


Einsatzgebiete

  • Abscheidung von atomar glatten und präzisen Nanometer-Einzel und Multischichten (homogen oder mit gezielten Schichtdickengradienten)
  • Abscheidung von Substratglättungsschichten


Technische Daten

  • Vakuum: p < 2·10-8 mbar
  • Substrate: Ø = 100 mm
  • Targets: 4 Stück, zylindrisch
  • Run-to-run-Reproduzierbarkeit der Schichtdicke:   99,8 %
  • Ablationslaser: gütegeschalteter Nd:YAG mit den Wellenlängen λ = 1064 nm, 532 nm, 355 nm und Pulslängen τ = 4 ... 10 ns