Fraunhofer-Institut für Werkstoff- und Strahltechnik IWS
Cross Section Polisher zur kantenscharfen Querschnittspräparation
Ionenstrahlapparatur PIPS 695 zur Anfertigung von TEM-Präparaten
Analytisches Zweistrahlsystem Focused Ion Beam (FIB) und Rasterelektronenmikroskop
Ausstattung
- Analytisches Zweistrahlsystem: Focused Ion Beam (FIB) und Rasterelektronenmikroskop, JIB-4610F (Fa. JEOL)
- Elektrolytstrahlapparatur „Tenupol“
- Elektrolytisches Polier- und Ätzsystem „PoliMat 2“
- Ionenstrahlätzsystem „Cross Section Polisher“
- Ionenstrahlpoliersysteme „PIPS 691“ und „PIPS 695“
Einsatz
- „Microfabrication“ / „Nanofabrication“; Herstellung vielfältiger geometrischer Strukturen; typ. Volumina: 10 mm3; typ. Genauigkeit: 10 nm
- Hochpräzise, schädigungsarme und effektive TEM-Proben- und Zielpräparation unterschiedlichster Materialien und Schichtsysteme
- Effiziente Bearbeitung großer Flächen und Volumina durch Ionenabtrag mit großen Ionenströmen
- Anfertigung verformungsfreier und kantenscharfer Querschnittspräparate für REM- und EDX-Analytik
- Präparation heterogener Werkstoffe, komplizierter Schichtsysteme, modifizierter Randschichten und Fügegrenzflächen
- Elektrolytisches Polieren und Ätzen metallischer Werkstoffe