Large Area Pulsed Laser Deposition (PLD)
Mit Hilfe der PLD lassen sich homogene (Multi-) Dünnschichten (im Nanometer-Bereich) einstellbarer Dichte herstellen. Dabei kann das Fraunhofer IWS auf eine langjährige Beschichtungserfahrung im Anwendungsbereich der Röntgen- und EUV-Optiken zurückgreifen. Die Generierung eines Schichtaufbaus basiert auf der Laser-Target-Wechselwirkung: Beim Auftreffen des Laserstrahles wird eine Plasma-Fackel (Mischung aus Atomen, Ionen, Clustern, Elektronen, Photonen) erzeugt. Die Kondensation des Targetmaterials auf der Substratoberfläche führt schlussendlich zur gewünschten Dünnschichtbildung. Durch eine individuell gestaltete Target-Substrat-Anordnung und -Bewegung ist es möglich, auch große Substrate (6“) homogen zu beschichten.
Vorteile
- stöchiometrischer Materialübertrag von Target zu Substrat
- kleine Targetgrößen verwendbar
- variable Abscheiderate
- einstellbare Dichte der Dünnschichten
- Abscheidung amorpher Strukturen
- Beschichtung unter Verwendung von Substratmasken möglich
- Reaktivgaseinlass möglich
- Substratgrößen bis 6“ beschichtbar