Schicht- und Oberflächenanalytik

Labor zur Schicht- und Oberflächencharakterisierung
© Fraunhofer IWS Dresden
Labor zur Schicht- und Oberflächencharakterisierung

In der Qualitätssicherung und bei der Optimierung von Beschichtungstechnologien besonders in der Photovoltaik- oder Halbleiterindustrie aber auch in anderen Bereichen, in denen es auf ein genaues Oberflächendesign ankommt, ist auf empfindliche Weise die Ermittlung des Oberflächenzustandes als entscheidendes Produktmerkmal notwendig.

Dafür stehen am Fraunhofer IWS Dresden Analysenmethoden der optischen Spektroskopie vom ultravioletten bis zum infraroten Spektralbereich zur Verfügung. Diese berührungslosen und zerstörungsfreien Messmethoden sind für unterschiedlichste Materialien wie Keramiken, Halbleiter, Gläser, Polymere und Metalle sowie für Schichtsysteme einsetzbar.

Unser Angebot reicht vom Nachweis und der Analyse von Schichten, der Charakterisierung von Oberflächenzuständen (z. B. Verunreinigungen) bis zur Bestimmung der Feuchte, Zusammensetzung, Funktionalisierung und Struktur von Materialien. Schichtsysteme können zusätzlich hinsichtlich der optischen Funktionen (Brechungsindex, Extinktionskoeffizient), der Schichtdicken (nm- bis µm-Bereich), des Schichtaufbaus und Inhomogenitäten untersucht werden. Außerdem sind zur Bestimmung der photokatalytischen Aktivität verschiedene Tests vorhanden.