Ausstattung

Beschichtungsanlagen

• Chemische Gasphasenabscheidung bei Atmosphärendruck (AP-CVD)
• 2 Anlagen zur Abscheidung von Metalloxiddünnschichten auf Substraten bis 300 x 300 mm²
• 2 Anlagen zur thermischen Abscheidung von Kohlenstoffnanoröhren auf Substraten bis 70 x 400 mm²

Beschichtung aus flüssiger Phase

• Rolle-zu-Rolle-Beschichtung auf Folien mit Auftrag über Rollrakel, 3 m Trocknerstrecke
• Tauchbeschichter zum Auftrag von Dünnschichten auf Substraten bis 300 x 300 mm²
• Spraycoater (Ultraschall oder Airbrush) zum Auftrag von Dünnschichten auf Substraten bis 300 x 300 mm²

Thermische Behandlung

• 2 Kammeröfen bis 1100 °C (Volumen: 7 Liter)
• 1 Kammerofen bis 1100 °C (Volumen: 11 Liter)
• 3 Rohröfen (Durchmesser: bis 50 mm) zur Temperaturbehandlung unter Schutzgas oder Reaktivgas bis 1300 °C
• 1 Drehreaktorrohrofen zur Temperaturbehandlung unter Schutzgas oder Reaktivgas bis 1100 °C

Kalander

• Anlage zum Verdichten und Glätten durch Kalandrieren (250 kN) auf einer Breite von max. 280 mm.
• beheizbarer Kalander
• Heißpresse

Charakterisierung

• Rheometer
• 4-Pkt-Widerstandsmessung
• Kontaktwinkelmessung
• optische Charakterisierung