Ausstattung im Bereich Chemische Oberflächen- und Batterietechnik

Anlage zur AP-CVD

Beweglicher AP-CVD-Beschichtungskopf zur Abscheidung auf Substratgrößen bis 300 x 300 mm2
Beschichtungsanlagen
- Chemische Gasphasenabscheidung bei Atmosphärendruck (AP-CVD)
- 2 Anlagen zur Abscheidung von Metalloxiddünnschichten auf Substraten bis 300 x 300 mm2
- 2 Anlagen zur thermischen Abscheidung von Kohlenstoffnanoröhren auf Substraten bis 70 x 400 mm2
Beschichtung aus flüssiger Phase
- Rolle-zu-Rolle-Beschichtung auf Folien mit Auftrag über Rollrakel, 3 m Trocknerstrecke
- Tauchbeschichter zum Auftrag von Dünnschichten auf Substraten bis 300 x 300 mm2
- Spraycoater (Ultraschall oder Airbrush) zum Auftrag von Dünnschichten auf Substraten bis 300 x 300 mm2
Thermische Behandlung
- 2 Kammeröfen bis 1100 °C (Volumen: 7 Liter)
- 1 Kammerofen bis 1100 °C (Volumen: 11 Liter)
- 3 Rohröfen (Durchmesser: bis 50 mm) zur Temperaturbehandlung unter Schutzgas oder Reaktivgas bis 1300 °C
- 1 Drehreaktorrohrofen zur Temperaturbehandlung unter Schutzgas oder Reaktivgas bis 1100 °C
Kalander
- Anlage zum Verdichten und Glätten durch Kalandrieren (250 kN) auf einer Breite von max. 280 mm.
- beheizbarer Kalander
- Heißpresse
Charakterisierung
- Rheometer
- 4-Pkt-Widerstandsmessung
- Kontaktwinkelmessung
- optische Charakterisierung