Präparationstechnik für Elektronenmikroskopie

Cross Section Polisher zur kantenscharfen Querschnittspräparation
© Frank Höhler

Cross Section Polisher zur kantenscharfen Querschnittspräparation

Ionenstrahlapparatur PIPS 695 zur Anfertigung von TEM-Präparaten
© Fraunhofer IWS Dresden

Ionenstrahlapparatur PIPS 695 zur Anfertigung von TEM-Präparaten

Analytisches Zweistrahlsystem Focused Ion Beam (FIB) und Rasterelektronenmikroskop
© Frank Höhler

Analytisches Zweistrahlsystem Focused Ion Beam (FIB) und Rasterelektronenmikroskop

Ausstattung

  • Analytisches Zweistrahlsystem: Focused Ion Beam (FIB) und Rasterelektronenmikroskop, JIB-4610F (Fa. JEOL)
  • Elektrolytstrahlapparatur „Tenupol“
  • Elektrolytisches Polier- und Ätzsystem „PoliMat 2“
  • Ionenstrahlätzsystem „Cross Section Polisher“
  • Ionenstrahlpoliersysteme „PIPS 691“ und „PIPS 695“


Einsatz

  • „Microfabrication“ / „Nanofabrication“; Herstellung vielfältiger geometrischer Strukturen; typ. Volumina: 10 mm3; typ. Genauigkeit: 10 nm
  • Hochpräzise, schädigungsarme und effektive TEM-Proben- und Zielpräparation unterschiedlichster Materialien und Schichtsysteme
  • Effiziente Bearbeitung großer Flächen und Volumina durch Ionenabtrag mit großen Ionenströmen
  • Anfertigung verformungsfreier und kantenscharfer Querschnittspräparate für REM- und EDX-Analytik
  • Präparation heterogener Werkstoffe, komplizierter Schichtsysteme, modifizierter Randschichten und Fügegrenzflächen
  • Elektrolytisches Polieren und Ätzen metallischer Werkstoffe