Rasterkraftmikroskopie

Rasterkraftmikroskop zur Charakterisierung von Proben bis zu einem Durchmesser von 150 mm (erweiterbar auf 200 mm)
© Fraunhofer IWS Dresden
Rasterkraftmikroskop zur Charakterisierung von Proben bis zu einem Durchmesser von 150 mm (erweiterbar auf 200 mm)
Scanner des Typs 'Dimension 3100'
© Fraunhofer IWS Dresden
Scanner des Typs 'Dimension 3100'
Beispiel einer typischen AFM-Aufnahme von röntgenoptischen Oberflächen
© Fraunhofer IWS Dresden
Beispiel einer typischen AFM-Aufnahme von röntgenoptischen Oberflächen

Rasterkraftmikroskopie

Die Präzisionsbeschichtung von Oberflächen mit Nanometer-Einzel- und/oder Multischichten erfordert eine möglichst genaue Kenntnis der zu beschichtenden Oberfläche. Insbesondere dann, wenn Schichten für optische Anwendungen entwickelt und hergestellt werden sollen, bestimmt die Frequenzverteilung der Rauheiten (PSD = power spectral density) das Streuverhalten der Optik. Für röntgenoptische Schichten sind aufgrund der geringen Wellenlänge der Strahlung extrem glatte Oberflächen erforderlich, um praktisch nutzbare Reflexionsgrade der Spiegel zu erzielen.

Zur Charaktisierung sowohl der unbeschichteten Substrate als auch der Endprodukte wird die Rasterkraftmikroskopie eingesetzt, die mit folgenden Modi betrieben werden kann:

  • contact mode
  • tapping mode
  • torsional mode


Kenndaten

  • Probengröße: bis 150 mm Durchmesser (erweiterbar auf 200 mm Durchmesser)
  • Probenhöhe: bis 12 mm
  • Geräterauschen: < 0,05 nm rms in vertikaler Richtung