UHV-Clustertool

UHV-Clustertool zur Herstellung von Präzisions-Nanometer-Multischichten mittels MSD und PLD

UHV-Clustertool zur Herstellung von Präzisions-Nanometer-Multischichten
© Fraunhofer IWS Dresden
UHV-Clustertool zur Herstellung von Präzisions-Nanometer-Multischichten

UHV-Hybridanlage mit den Modulen

  • Beschichtungskammer für Puls-Laser-Deposition (PLD)
  • Kammer für Magnetron-Sputter-Deposition (MSD)
  • zentrales Handlingsystem
  • Probenschleuse
  • Probenmagazin


Technische Daten

Allgemein

  • Vakuum: p < 2·10-8 mbar
  • Substrate: Ø = 150 mm, m = 5 kg
  • Targets: 4 Stück in beiden Kammern
  • Run-to-run-Reproduzierbarkeit der Schichtdicke:  99,8 %

PLD

  • Ablationslaser: gütegeschalteter Nd:YAG mit den Wellenlängen λ = 1064 nm, 532 nm, 355 nm und  Pulslängen τ = 4 ... 10 ns

MSD

  • Sputtermodi: DC und RF
  • typischer Arbeitsdruck: pA r ≥ 7 ·10-4 mbar
  • Target-Substrat-Abstand: 50 ... 100 mm


Typische Schichteigenschaften

  • Schichtdicken: 0,2 ... 500 nm
  • extrem geringe Rauigkeiten im Bereich von 0,15 ... 0,3 nm
  • Homogenität: 99,5 - 99,9 % über 150 mm


Ausgewählte Ergebnisse

  • MSD: Mo/Si-Multischichten mit EUV-Reflexionsgraden von 70 % (Wellenlänge λ = 13,5 nm, Einfallswinkel α = 1,5 °)
  • PLD: Ni/C-Multischichten mit dP = 3,25 nm und RCu-Kα = 73 %