PVD-Schichten

Verfahren der Physikalischen Dampfphasenabscheidung (PVD = Physical Vapor Deposition) erlauben die Abscheidung hochwertiger tribologischer und funktioneller Schichten im Dickenbereich von wenigen Nanometern bis zu einigen zehn Mikrometern. Dazu stehen im IWS Verfahren von der Hochrate-Bedampfung bis hin zu hochaktivierten Plasmaverfahren sowie deren Kombinationen zur Verfügung. Einen besonderen Schwerpunkt bildet die umfassende Nutzung von Bogenentladungen als der effektivsten Quelle energiereicher Dampfstrahlen.

 

Highlight

Hartstoffschichten mit >100 µm Dicke

Diese Schichten eignen sich für den Schutz extrem belasteter Oberflächen von Werkzeugen und Bauteilen. Das Bild zeigt den Querschliff einer 130 µm dicken Hartstoffschicht auf Al-Cr-Si-Ti-N- Basis, die mit dem Arc-Verfahren hergestellt wurde.

 

Technologien

Die Verfahren zur physikalischen Dampfphasenabscheidung eignen sich zur Herstellung dünner Schichten aus den unterschiedlichsten Materialien. Wir beschäftigen uns mit der Weiterentwicklung der Verfahren zur Erschließung neuer Anwendungsgebiete sowie zur Verbesserung von Prozesssicherheit und Effizienz.

 

Komponenten

Die Umsetzung neuer Technologien erfordert meist die Investition in neue technische Ausrüstungen. In vielen Fällen genügt die Anschaffung einer oder mehrerer Schlüsselkomponenten und die bereits vorhandene Anlagentechnik ist fit für eine neues Verfahren. Wir entwickeln und fertigen ausgewählte Komponenten auf Kundenwunsch.

 

Ausstattung

Für Forschungs- und Entwicklungsprojekte sowie Muster- und Kleinserienbeschichtungen stehen Analgen zur Arc- Beschichtung (klassischer dc-Arc, puls-Arc), zum Elektronenstrahlaufdampfen und zur Sputterbeschichtung zur Verfügung. Mit diesen können eine Vielzahl unterschiedlicher Beschichtungsaufgaben erfüllt werden.