Batterieschichten

Technologien

Large Area Pulsed Laser Deposition (PLD)

Blick auf Target, PLD-Beschichtung unter Reaktivgas
© Fraunhofer IWS Dresden
Blick auf Target, PLD-Beschichtung unter Reaktivgas
Skizze, Prinzip PLD-Beschichtungsverfahren
© Fraunhofer IWS Dresden
Skizze, Prinzip PLD-Beschichtungsverfahren

Mit Hilfe der PLD lassen sich homogene (Multi-) Dünnschichten (im Nanometer-Bereich) einstellbarer Dichte herstellen. Dabei kann das Fraunhofer IWS auf eine langjährige Beschichtungserfahrung im Anwendungsbereich der Röntgen- und EUV-Optiken zurückgreifen. Die Generierung eines Schichtaufbaus basiert auf der Laser-Target-Wechselwirkung: Beim Auftreffen des Laserstrahles wird eine Plasma-Fackel (Mischung aus Atomen, Ionen, Clustern, Elektronen, Photonen) erzeugt. Die Kondensation des Targetmaterials auf der Substratoberfläche führt schlussendlich zur gewünschten Dünnschichtbildung. Durch eine individuell gestaltete Target-Substrat-Anordnung und -Bewegung ist es möglich, auch große Substrate (6“) homogen zu beschichten.


Vorteile

  • stöchiometrischer Materialübertrag  von Target zu Substrat
  • kleine Targetgrößen verwendbar
  • variable Abscheiderate
  • einstellbare Dichte der Dünnschichten
  • Abscheidung amorpher Strukturen
  • Beschichtung unter Verwendung von Substratmasken möglich
  • Reaktivgaseinlass möglich
  • Substratgrößen bis 6“ beschichtbar