Röntgen- und EUV-Spiegel verschiedener Größen

Präzisionsbeschichtung für optische Anwendungen

Die Nutzung von Strahlung des extrem ultravioletten (EUV) und Röntgenspektralbereichs erzwingt die Entwicklung neuartiger Reflexionsschichten mit außerordentlich hohen Präzisionsanforderungen. Die herzustellenden Schichten weisen dabei Dicken im Nanometerbereich auf. Diese Kombination aus Nanotechnologie und Optik erfordert spezielle Kenntnisse und kann nur mit maßgeschneiderter Anlagentechnik erfolgreich bearbeitet werden.

Ein wesentlicher Schwerpunkt der wissenschaftlichen Arbeiten innerhalb der Gruppe "Röntgen- und EUV-Optik" des IWS Dresden ist die Präzisionsbeschichtung für optische Anwendungen. Je nach Anwendungsfall und Schichtsystem werden dafür die folgenden Verfahren zur Herstellung der Schichten eingesetzt:

• Ionenstrahl-Sputter-Deposition
  (IBSD = ion beam sputter deposition)
• Magnetron-Sputter-Deposition (MSD)
• Puls-Laser-Deposition (PLD)
• Innenbeschichtung mit PLD

Um die entwickelten Beschichtungslösungen bewerten und in Produkte und Systeme umsetzen zu können, müssen die folgenden weiteren Arbeitsaufgaben ausgeführt und ständig weiterentwickelt werden:

• Schichtcharakterisierung,
• Feinmechanik/Konstruktion und
• Modellierung/Simulationstechnik.