Röntgen- und EUV-Optik

Zur Abscheidung von Nanometer-Einzel- und Multischichten für EUV- und Röntgenoptiken setzen wir die Verfahren der Magnetron- und Ionenstrahl-Sputter-Deposition sowie der Puls-Laser-Deposition ein. Die Schichtsysteme genügen höchsten Ansprüchen hinsichtlich Schichtdickengenauigkeit, Rauheit, chemischer Reinheit, lateraler Homogenität und Reproduzierbarkeit. Neben der Entwicklung und Herstellung von Präzisionsschichten bieten wir langjährige Erfahrungen auf den Gebieten der Charakterisierung und Modellierung von Nanometerschichten an.

Highlight

 

Mit Multischicht-Laue-Linsen zur höchstauflösenden Röntgenoptik

Die immer weiter fortschreitende Miniaturisierung der Mikroprozessoren erfordert auch verbesserte Untersuchungsverfahren. Mit Röntgenmikroskopie ist es möglich, kleine Strukturen quasi zerstörungsfrei und bei entsprechenden Aufbauten im Betrieb zu untersuchen, um Fehlstellen zu identifizieren und in Zukunft zu vermeiden.