Ausstattung

Fraunhofer-Institut für Werkstoff- und Strahltechnik

Anlagen zur Atmosphärendruck-Plasma-CVD

Atmosphärendruck-Plasma-CVD-Prozesse (AP-PECVD) ermöglichen die großflächige Beschichtungen von Bauteilen und Halbzeugen mit Funktionsschichten im Durchlaufverfahren ohne den kostenintensiven Einsatz von Vakuumanlagen. Damit sind kontinuierliche Beschichtungsprozesse mit hohen Raten auf temperaturempfindlichen Materialien (wie Sonderstählen, Leichtmetallen, Gläsern und Kunststoffen sowie leicht gekrümmten Substraten unterschiedlicher Dicke) realisierbar.