Technologien

Verfahren zur Beschichtung und Oberflächenbehandlung

Die Verfahren zur Beschichtung und Oberflächenbehandlung basieren auf Gasphasen- (CVD) und Flüssigphasen-Prozessen. Alle Technologien arbeiten bei Atmosphärendruck, sind skalierbar und für die Großflächenbeschichtung bzw. -behandlung einsetzbar.

 

Chemische Gasphasenabscheidung bei Atmosphärendruck (AP-CVD)

Mittels Chemischer Gasphasenabscheidung lassen sich qualitativ hochwertige Materialien im Schichtdickenbereich von 10 nm - 20000 nm auf unterschiedlichsten Substraten herstellen. Die abgeschiedenen Materialien entstehen dabei aus Vorläuferverbindungen (Precursoren), welche aus der Gasphase ein gezieltes Schichtwachstum ermöglichen.
 

Spray- und Tauchbeschichtung aus flüssiger Phase

Durch die Chemische Abscheidung aus der flüssigen Phase ist die Herstellung und Verarbeitung einer Vielzahl von Materialien möglich. Bei der Herstellung von anorganischen Materialien können aus chemischen Vorläuferverbindungen gezielt die gewünschten Materialeigenschaften eingestellt werden.
 

Transferverfahren zur Veredelung von Kunststoffoberflächen

Das Fraunhofer IWS bietet funktionale Technologien für Folienherstellung und Spritzgussverfahren an. Dabei werden z. B. Kohlenstoffnanoröhren (CNT) während des Herstellungsprozesses in die oberen Nanometer der Bauteiloberfläche fest integriert.
 

Rakelverfahren (Comma-Bar)

Ein Schwerpunkt der Entwicklungen liegt in der Rolle-zu-Rolle Beschichtung von Metallfolien für die Herstellung von Batterieelektroden. So werden unter anderem wasserbasierte Verfahren zur Herstellung von Anoden und Kathoden für die Lithium-Ionen-Batterie, sowie für hochkapazitive Lithium-Schwefel-Batterien entwickelt.