Ausstattung

Fraunhofer-Institut für Werkstoff- und Strahltechnik

Ausstattung im Bereich Chemische Oberflächentechnologie

Anlage zur AP-CVD 
Anlage zur AP-CVD
© Fraunhofer IWS Dresden


Beweglicher AP-CVD-Beschichtungskopf zur Abscheidung auf Substratgrößen bis 300 x 300 mm2 
Beweglicher AP-CVD-Beschichtungskopf zur Abscheidung auf Substratgrößen bis 300 x 300 mm2
© Fraunhofer IWS Dresden


Beschichtung im Sprayverfahren 
Beschichtung im Sprayverfahren
© Fraunhofer IWS Dresden

Beschichtungsanlagen

  • Chemische Gasphasenabscheidung bei Atmosphärendruck (AP-CVD)
  • 2 Anlagen zur Abscheidung von Metalloxiddünnschichten auf Substraten bis 300 x 300 mm2
  • Anlage zur plasmaaktivierten Abscheidung von Dünnschichten, bzw. zur Plasmavorbehandlung von Substraten bis 100 x 100 mm2
  • Anlage zur thermischen Abscheidung von Kohlenstoffnanoröhren auf Substraten bis 70 x 400 mm2

Beschichtung aus flüssiger Phase

  • Rolle-zu-Rolle-Beschichtung auf Folien mit Auftrag über Rollrakel, 3 m Trocknerstrecke und Möglichkeit zum Verdichten und Glätten durch Kalandrieren (250 kN) auf einer Breite von max. 280 mm.
  • Tauchbeschichter zum Auftrag von Dünnschichten auf Substraten bis 300 x 300 mm2
  • Spraycoater (Ultraschall oder Airbrush) zum Auftrag von Dünnschichten auf Substraten bis 300 x 300 mm2

Materialaufbereitung

Für die Aufbereitung von Feststoffen, Pasten und Dispersionen steht das nötige Equipment zur Verfügung, darunter:

  • Glovebox und Chemieabzüge
  • Dispergierverfahren (Ultraschall, Mörsermühle, Rührwerke)
  • Öfen (Muffelofen, Drehreaktorofen, Trockenschrank)

Messtechnik

Für die elektrochemische Charakterisierung von Batterie- und Supercap-Elektroden stehen verschiedene Testgeräte zur Verfügung.

  • Temperaturprüfschrank
  • 2-Kanal Batterietester (große Zellen)
  • 4-Kanal Potentiostat
  • 32-Kanal Batterietester (Testzellen)