Ausstattung

Ausstattung im Bereich Chemische Oberflächen- und Batterietechnik

Anlage zur AP-CVD
© Foto Fraunhofer IWS Dresden

Anlage zur AP-CVD

Beweglicher AP-CVD-Beschichtungskopf zur Abscheidung auf Substratgrößen bis 300 x 300 mm2
© Foto Fraunhofer IWS Dresden

Beweglicher AP-CVD-Beschichtungskopf zur Abscheidung auf Substratgrößen bis 300 x 300 mm2

Beschichtungsanlagen

  • Chemische Gasphasenabscheidung bei Atmosphärendruck (AP-CVD)
  • 2 Anlagen zur Abscheidung von Metalloxiddünnschichten auf Substraten bis 300 x 300 mm2
  • 2 Anlagen zur thermischen Abscheidung von Kohlenstoffnanoröhren auf Substraten bis 70 x 400 mm2

Beschichtung aus flüssiger Phase

  • Rolle-zu-Rolle-Beschichtung auf Folien mit Auftrag über Rollrakel, 3 m Trocknerstrecke
  • Tauchbeschichter zum Auftrag von Dünnschichten auf Substraten bis 300 x 300 mm2
  • Spraycoater (Ultraschall oder Airbrush) zum Auftrag von Dünnschichten auf Substraten bis 300 x 300 mm2

Thermische Behandlung

  • 2 Kammeröfen bis 1100 °C (Volumen: 7 Liter)
  • 1 Kammerofen bis 1100 °C (Volumen: 11 Liter)
  • 3 Rohröfen (Durchmesser: bis 50 mm) zur Temperaturbehandlung unter Schutzgas oder Reaktivgas bis 1300 °C
  • 1 Drehreaktorrohrofen zur Temperaturbehandlung unter Schutzgas oder Reaktivgas bis 1100 °C

Kalander

  • Anlage zum Verdichten und Glätten durch Kalandrieren (250 kN) auf einer Breite von max. 280 mm.
  • beheizbarer Kalander
  • Heißpresse

Charakterisierung