Chemische Oberflächen- und Reaktionstechnik

Fraunhofer-Institut für Werkstoff- und Strahltechnik

Neue Technologien verbessern Funktionalität von Oberflächen

  • Plasma- und Reaktionstechnik

    Am Fraunhofer IWS werden Prototypen von Durchlaufreaktoren mit Gasschleusen zur Herstellung von oxidischen und nichtoxidischen Schichten sowie zum plasmachemischen Ätzen bei Normaldruck entwickelt.

  • Prozess-Monitoring

    gefalteter Strahlengang einer kompakten Meßzelle zur Spurengasdetektion

    Arbeitsschwerpunkt ist die Entwicklung optisch-spektroskopischer Messtechnik zur Charakterisierung und Überwachung industriell relevanter Gasphasenprozesse mittels ppb-Spurengas-, Multigas- und Aerosolanalytik. Im Mittelpunkt stehen dabei die Prozessaufklärung sowie die Entwicklung von Analysatoren und deren Prozessimplementierung. Ergänzt wird das Angebot mit Charakterisierungsmethoden für poröse Stoffe sowie Methoden der Schicht- und Oberflächencharakterisierung.

  • Chemische Oberflächentechnologie

    PMMA-Scheibe mit integrierter CNT-Schicht

    Chemische Beschichtungsverfahren basierend auf Gasphasen- (CVD) und Flüssigphasen-Prozessen werden entwickelt, mit denen sich großflächig Beschichtungen auf Basis neuer Materialien auftragen lassen. Schwerpunkte sind unter anderem transparente, funktionale Dünnschichten und poröse Kohlenstoffschichten für elektrische Energiespeicher.