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Chemische Oberflächen- und Reaktionstechnik
Fraunhofer-Institut für Werkstoff- und Strahltechnik
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Neue Technologien verbessern Funktionalität von Oberflächen
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Am Fraunhofer IWS werden Prototypen von Durchlaufreaktoren mit Gasschleusen zur Herstellung von oxidischen und nichtoxidischen Schichten sowie zum plasmachemischen Ätzen bei Normaldruck entwickelt.

Arbeitsschwerpunkt ist die Entwicklung optisch-spektroskopischer Messtechnik zur Charakterisierung und Überwachung industriell relevanter Gasphasenprozesse mittels ppb-Spurengas-, Multigas- und Aerosolanalytik. Im Mittelpunkt stehen dabei die Prozessaufklärung sowie die Entwicklung von Analysatoren und deren Prozessimplementierung. Ergänzt wird das Angebot mit Charakterisierungsmethoden für poröse Stoffe sowie Methoden der Schicht- und Oberflächencharakterisierung.

Chemische Beschichtungsverfahren basierend auf Gasphasen- (CVD) und Flüssigphasen-Prozessen werden entwickelt, mit denen sich großflächig Beschichtungen auf Basis neuer Materialien auftragen lassen. Schwerpunkte sind unter anderem transparente, funktionale Dünnschichten und poröse Kohlenstoffschichten für elektrische Energiespeicher.
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